＜告示＞
Ｋ４２６－２ 口唇裂形成手術（両側）
１ 口唇のみの場合
18,810点
２ 口唇裂鼻形成を伴う場合
23,790点
３ 鼻腔底形成を伴う場合
36,620点
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＜通知＞
Ｋ４２６－２ 口唇裂形成手術（両側） コウシンレツ ケイセイシュジュツ
<R2 厚労省告示第57号>
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